Pelajaran 1Antimikrob dan bahan aktif mesra mikrobiom: benzoyl peroxide, asid azelaik, antimikrob topikal dan pertimbangan rintanganBahagian ini meliputi antimikrob topikal dan bahan aktif sedar mikrobiom, termasuk benzoyl peroxide dan asid azelaik. Ia mengkaji mekanisme, kebimbangan rintangan, perubahan mikrobiom, dan strategi untuk mengehadkan disbiose sambil merawat penyakit.
Benzoyl peroxide: tindakan bakteriostatik dan iritasiAsid azelaik: antimikrob dan anti-keradanganAntibiotik topikal dan pengurangan rintanganPerubahan mikrobiom dalam jerawat dan dermatitisStrategi antimikrob bukan-antibiotikMenggabungkan antimikrob dengan sokongan pelindungPelajaran 2Surfaktan dan pembersih: bukan berbuih vs berbuih, pH dan kesan pelindungBahagian ini menganalisis kimia surfaktan dan reka bentuk pembersih, membandingkan sistem berbuih dan bukan berbuih. Ia meliputi pH, ekstrak lipid, gangguan pelindung, dan cara memilih pembersih untuk jerawat, rosacea, kulit atopik, dan penjagaan selepas prosedur.
Kelas surfaktan anionik, amfoterik, dan nonionikSistem berbuih vs bukan berbuih dan rasa kulitpH pembersih, mantel asid, dan perubahan TEWLSyndets vs sabun sebenar dalam dermokosmetikPemilihan pembersih untuk jerawat dan kulit berminyakPembersih untuk kulit atopik, rosacea, dan berusiaPelajaran 3Penapis sunscreen: penapis kimia vs mineral, liputan UVA/UVB, fotostabil, dan kesan kenderaanBahagian ini mengkaji penapis sunscreen organik dan mineral, liputan UVA dan UVB, dan fotostabil. Ia membincangkan kenderaan, pembentukan filem, keanggunan kosmetik, dan interaksi penapis dengan bahan aktif lain dalam rejimen dermokosmetik.
UVA vs UVB: spektrum tindakan dan hasil kulitPenapis organik: mekanisme dan profil keselamatanPenapis mineral: saiz zarah dan putihFotostabil, penggabungan penapis, dan boosterJenis kenderaan, pembentukan filem, dan pematuhanMenggabungkan sunscreen dengan bahan aktif rentan iritasiPelajaran 4Agens anti-keradangan dan pembaikan pelindung: niacinamide, panthenol, ceramide, kolesterol, asid lemakBahagian ini meneroka bahan anti-keradangan dan pembaikan pelindung seperti niacinamide, panthenol, ceramide, kolesterol, dan asid lemak. Ia menghubungkan tindakan molekul kepada hasil klinikal dalam jerawat, rosacea, dermatitis atopik, dan dermatitis iritan.
Niacinamide: mekanisme, faedah, dan hadPanthenol dan petenangan iritasi akutSubkelas ceramide dan organisasi lamellarKolesterol dan asid lemak dalam keseimbangan pelindungNisbah ceramide:kolesterol:asid lemak optimumPembaikan pelindung dalam dermatitis atopik dan iritanPelajaran 5Pengawet, wangian, dan penyensitif biasa: paraben, pelepas formaldehid, minyak patiBahagian ini mengkaji pengawet, komponen wangian, dan penyensitif klasik. Ia menerangkan mekanisme pemeliharaan, laluan alergenik tipikal, relevansinya ujian patch, dan cara memilih pilihan risiko rendah untuk kulit sensitif atau terganggu.
Mekanisme pemeliharaan kosmetik dan kestabilanParaben: data keselamatan, mitos, dan status peraturanPelepas formaldehid dan risiko alahan sentuhCampuran wangian, minyak pati, dan penyensitifanMembaca label untuk bebas wangian dan hipoalergenikRelevansi ujian patch dan kaunseling pesakitPelajaran 6Antioksidan dan bahan aktif sokongan: vitamin C (asid askorbik), tokoferol, dan interaksi niacinamideBahagian ini mengkaji antioksidan dan bahan aktif sokongan utama, memberi tumpuan kepada vitamin C, vitamin E, dan niacinamide. Ia meliputi kestabilan, gabungan sinergik, ketidaksesuaian potensi, dan cara agen ini melindungi daripada tekanan oksidatif.
Laluan tekanan oksidatif dalam penuaan kulitBentuk asid askorbik, pH, dan penstabilanSinergi antioksidan fasa lipid tokoferolStrategi ko-formulasi vitamin C dan EInteraksi niacinamide dengan formula asidikAntioksidan dalam rejimen fotolindungPelajaran 7Retinoid dan retinaldehid: keberkesanan, pengurusan iritasi, dan fotosensitivitiBahagian ini mengperincikan retinoid topikal, termasuk retinol, retinaldehid, dan analog preskripsi. Ia mengkaji mekanisme, bukti anti-penuaan dan jerawat, laluan iritasi, isu fotosensitiviti, dan strategi untuk membina toleransi dan menggabungkan bahan aktif.
Gambaran keseluruhan keluarga retinoid dan farmakologi kulitBukti untuk jerawat, foto-penuaan, dan diskromiaRetinaldehid vs retinol: keupayaan dan tolerabilitiMekanisme iritasi dan gangguan pelindungProtokol retinization dan strategi penampanFotosensitiviti, fotolindung, dan masaPelajaran 8Humektan dan hidrator: asid hialuronik, gliserin, propanediol — pertimbangan berat molekulBahagian ini meneroka humektan dan hidrator pengikat air, termasuk asid hialuronik, gliserin, dan propanediol. Ia menerangkan berat molekul, penembusan, lekit, dan cara menggabungkan humektan dengan oklusif untuk mengelakkan dehidrasi pelindung.
Mekanisme humektansi dan pengikatan airBerat molekul asid hialuronik dan kesannyaGliserin: keberkesanan, keselamatan, dan profil sensorikPeranan pelarut berfungsi berganda propanediolMenggabungkan humektan dengan oklusif dan emolienPilihan hidrator untuk kulit berminyak vs sangat keringPelajaran 9Keratolitik dan eksfolian: asid salisilik, asid glikolik, asid laktik — kepekatan, pH, dan risiko iritasiBahagian ini menganalisis keratolitik dan eksfolian seperti asid salisilik, glikolik, dan laktik. Ia menerangkan kepekatan, pH, kedalaman penembusan, dan risiko iritasi, membimbing penggunaan selamat dalam jerawat, foto-penuaan, diskromia, dan kulit sensitif.
Mekanisme asid beta-hidroksi vs alfa-hidroksiPeranan pH dan kepekatan dalam keupayaan asidAsid salisilik dalam jerawat dan kulit seboroikAsid glikolik untuk foto-penuaan dan diskromiaAsid laktik untuk kulit kering dan rentan sensitifMelapisi asid dengan retinoid dan vitamin C
