Somo 1Mpangilio wa mfumo na mabomba: kuondoa hewa, sampuli otomatiki, kubadili nguzo na athari za kiasi cha dwellInapitia sehemu kuu za mfumo na mabomba yanayoathiri utendaji wa mbinu, ikijumuisha kuondoa hewa, muundo wa sampuli otomatiki, vipimo vya mabomba, na kubadili nguzo. Inasisitiza kiasi cha dwell na udhibiti wa kusambaza ziada ya nguzo.
Mbinu za kuondoa hewa na kuzuia mapambaMuundo wa sampuli otomatiki na udhibiti wa carryoverID ya mabomba, urefu, na athari za kusambazaVali za kubadili nguzo na mipangilioKupima na kurekebisha kiasi cha dwellSomo 2Kuchagua awamu thabiti: kemistri za C18, ukubwa wa pore, ukubwa wa chembe, endcapping, hybrid dhidi ya silicaInaelezea jinsi ya kuchagua awamu thabiti za reversed-phase, ikilenga kwenye aina za C18, ukubwa wa pore na chembe, endcapping, na hybrid dhidi ya silica safi. Inasisitiza kulinganisha kemistri ya awamu na sifa za analyte na malengo ya mbinu.
Mnato wa C18 na aina ya ligandAwamu za endcapped dhidi ya zisizo-endcappedUkubwa wa pore kwa molekuli ndogo dhidi ya peptidesAwamu za hybrid silica dhidi ya silica ya kitamaduniKuchagua ukubwa wa chembe kwa mahitaji ya utendajiSomo 3Vizuizi vya vitendo kwa maabara za dawa: kasi ya sampuli, uimara, na ushirikiano wa kutafuniaInashughulikia vizuizi vya ulimwengu halisi katika maabara za dawa, ikijumuisha kasi ya sampuli, uimara, ushirikiano wa kutafunia, na usimamizi wa maisha. Inauunganisha matarajio ya udhibiti na chaguo za vitendo za mbinu na vifaa.
Kusawazisha wakati wa kukimbia na uboraUimara wa mbinu na tafiti za ruggednessUshirikiano wa kutafunia na analytes na sealiKupunguza matumizi ya kutafunia na kutupia takaMatarajio ya udhibiti kwa mbinu za kawaidaSomo 4Kanuni za HPLC ya reversed-phase na taratibu za uhifadhiInatanguliza kanuni za msingi za reversed-phase HPLC, ikijumuisha mwingiliano wa hydrophobic, partitioning, na jukumu la muundo wa awamu ya simu. Inauunganisha taratibu za uhifadhi na chaguo za vitendo katika maendeleo ya mbinu.
Mwingiliano wa hydrophobic na partitioningJukumu la modifier ya kikaboni katika uhifadhiAthari ya polarity ya analyte na logPAthari ya joto juu ya uhifadhiAnalytes zenye ionizable katika reversed-phase HPLCSomo 5Kuchagua detector na uboreshaji wa wavelength kwa uchunguzi wa UV: skana za spectra, matumizi ya diode-array, maelewano ya sensitivityInashughulikia kuchagua detector wa UV na uboreshaji wa wavelength, ikijumuisha detector za wavelength thabiti, variable-wavelength, na diode-array. Inaeleza skana za spectra, ukaguzi wa ubora wa kilele, na kusawazisha sensitivity na selectivity na kelele.
Detector za thabiti dhidi ya variable dhidi ya diode-arrayKuchagua λmax kutoka spectra za UVMaelewano ya bandpass, kelele, na sensitivityTathmini ya ubora wa kilele kwa spectra za DADKiwango cha linear na mipaka ya saturation ya detectorSomo 6Chaguo za gradient dhidi ya isocratic: lini kutumia kila moja, mteremko wa gradient, mazingatio ya dwell volumeInalinganisha elution ya isocratic na gradient, ikieleza lini kila moja inafaa. Inashughulikia muundo wa gradient profile, mteremko na wakati wa kukimbia, athari za dwell volume, na mikakati ya vitendo kwa uhamisho thabiti wa gradient kati ya mifumo ya HPLC.
Lini kuchagua isocratic dhidi ya elution ya gradientKubuni nguvu ya awamu ya simu ya awali na ya mwishoMteremko wa gradient, wakati wa kukimbia, na uboraDwell volume ya mfumo na kuchelewesha gradientKuhamisha gradients kati ya vifaaSomo 7Kuchagua pH: uhusiano wa pKa, athari juu ya uhifadhi na umbo la kilele kwa asidi/bases dhaifuInaeleza jinsi pH ya awamu ya simu ikilinganishwa na pKa ya analyte inadhibiti ionization, uhifadhi, na ulinganifu wa kilele kwa asidi na bases dhaifu, na mwongozo wa kuchagua pH ili kuboresha ubora, uimara, na maisha ya nguzo.
Ionization ya asidi na bases dhaifu dhidi ya pHKutumia Henderson–Hasselbalch kwa kuchagua pHAthari za pH juu ya uhifadhi na selectivityAthari za pH juu ya tailing na fronting ya kileleMipaka ya pH ya buffer kwa uthabiti wa nguzo ya silicaSomo 8Muundo wa awamu ya simu: buffers (fosfati, acetate, ammonium), nguvu ya ionic, na maandalizi ya bufferInazingatia kuchagua na kuandaa buffer za awamu ya simu, ikishughulikia fosfati, acetate, na volatile ammonium buffers. Inajadili nguvu ya ionic, udhibiti wa pH, uwezeshaji, uchujaji, na ushirikiano na detector na nguzo.
Kuchagua aina za buffer na kiko cha pHUwezo wa buffer na athari za nguvu ya ionicKuandaa, kuchuja, na kuondoa hewa buffersUwezeshaji wa buffer na maudhui makubwa ya kikaboniBuffers zenye volatile kwa ushirikiano wa MSSomo 9Modifiers za kikaboni: methanol dhidi ya acetonitrile athari, nguvu ya kutafunia na selectivityInaeleza jinsi methanol na acetonitrile zinatofautiana katika nguvu ya kutafunia, unyevu, na selectivity katika reversed-phase HPLC. Inajadili mifumo ya kikaboni iliyochanganywa, mwingiliano wa joto, na mazingatio ya vitendo kama gharama na usalama.
Nguvu ya kutafunia katika skeli za eluotropic za kawaida za RPUnyevu, shinikizo la nyuma, na athari za jotoTofauti za selectivity MeOH dhidi ya ACNKutumia modifiers za kikaboni zilizochanganywa kwa kurekebishaMazingatio ya usalama, gharama, na usambazajiSomo 10Kasi ya mtiririko, joto, na kiasi cha sindano: athari juu ya ufanisi, shinikizo la nyuma, na umbo la kileleInaelezea jinsi kasi ya mtiririko, joto la nguzo, na kiasi cha sindano zinavyoathiri ufanisi, shinikizo la nyuma, uhifadhi, na umbo la kilele. Inatoa kanuni za kuweka kasi ya mtiririko, kuepuka overload, na kuboresha joto kwa uimara.
Van Deemter na kuchagua mtiririko boraAthari za joto juu ya uhifadhi na kineticsKiasi cha sindano na overload ya nguzoTofauti ya kutafunia na kuvurugwa kwa kileleKuweka kasi ya mtiririko na ID na urefu wa nguzoSomo 11Vipimo vya nguzo na maelewano ya ukubwa wa chembe: urefu, ID, 3–5 µm dhidi ya sub-2 µmInaelezea jinsi urefu wa nguzo, kipenyo cha ndani, na ukubwa wa chembe zinavyoathiri ufanisi, shinikizo la nyuma, sensitivity, na wakati wa uchambuzi. Inatoa mwongozo wa kuchagua nguzo za 3–5 µm dhidi ya sub-2 µm na kuweka vipimo kati ya mifumo.
Athari ya urefu wa nguzo juu ya ubora na wakatiMazingatio ya kipenyo cha ndani na sensitivityUfanisi na shinikizo wa 3–5 µm dhidi ya sub-2 µmKuweka mbinu kati ya vipimo vya nguzoAthari za nguzo za kulinda na muundo wa frit
